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派瑞林沉積原理

發布時間：2017-04-19 11:48:31點擊率：

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parylene采用一種獨特的化學氣相沉積工藝（CVD），CVD工藝最早應用在半導體工業的外延生長，整個過程是氣態反應，又在真空條件下進行，因而可以獲得非常均勻的涂層，達到其它方法難以實現的同形性。

氣態單體進入沉積腔室，首先彌漫在工件表面，當吸附到各個表面后開始聚合和結晶，直接形成固體，避免了液相的出現，清除了厚度的不均勻和涂層中的缺陷。

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